電気通信大学 大学院情報理工学研究科 情報・ネットワーク工学専攻 電子情報学プログラム

Theses 2009

平成21度(2009年度)

修士論文

  • 荒井 優
    異なる成膜方法によるITO/GaAsコンタクト抵抗の研究
  • 荒川 盛司
    電着法による酸化亜鉛の光学的特性評価
  • 菊地 孝輔
    ZnOナノロッドの水熱法による選択成長とその発光特性
  • 齋藤 雅彰
    自立GaN基板N面におけるオーミック電極の形成及びその物性評価
  • 高井 伸影
    C-t法による低温酸化膜MOSキャパシターの電気的特性評価
  • 冨岡 能州
    MOVPE法による(001)InP基板上へのInAs/GaAsナノ構造の作製および評価
  • 長岡 信介
    InGaP/GaAsヘテロ接合バイポーラフォトトランジスタの作製及び評価
  • 渡邊 明広
    分子線エピタキシャル法によるMn5Ge3/Ge磁性金属・半導体薄膜の作製とその特性評価
  • 王 原
    ドライアイスショットによるシリコン基板洗浄とそのシリコンプロセスへの導入

卒業論文

  • 青木 遼太郎
    走査型プローブ顕微鏡による酸素アニール後のZnOナノロッドの導電性評価
  • 今西 弘
    PH3を曝したGaAs表面の光学評価
  • 小池 俊平
    逆ラプラス変換アルゴリズムを用いたDLTS装置の開発
  • 齋藤 慎
    照明用白色LED高性能化のための光学シミュレーション
  • 佐藤 寛夢
    ドライアイスブラスターショットによる半導体洗浄プロセスの研究
  • 高木 保志
    InGaP/GaAs ヘテロ接合バイポーラフォトトランジスタの三端子動作特性
  • 南 泰勲
    LEDをモールディングする材質の粘性による放熱効率評価
  • LIM SOO SING
    172nm真空紫外光の低温シリコン酸化膜への影響
  • 吉田 健一
    高周波スパッタリング法によるNiOx薄膜の作製及び評価
  • 綿引 亮介
    X線回折法および走査型トンネル顕微鏡によるInGaP/GaAsヘテロ界面の相互拡散評価
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